真空滅弧室的屏蔽系統主要由屏蔽筒，屏蔽罩和其他零件組成。

屏蔽系統的主要作用是：

1.防止觸頭在燃弧過程中產生大量的金屬蒸汽和液滴噴濺，污染絕緣外殼的內壁，避免造成真空滅弧室外殼的絕緣強度下降或產生閃絡。

2.改善真空滅弧室內部的電場分布，有利于真空滅弧室絕緣外殼的小型化，尤其是對于高電壓的真空滅弧室小型化有顯著效果。

3.吸收一部分電弧能量，冷凝電弧生成物。特別是真空滅弧室在開斷短路電流時，電弧所產生的熱能大部分被屏蔽系統所吸收，有利于提高觸頭間的介質恢復強度。屏蔽系統吸收電弧生成物的量越大，說明他吸收的能量也越大，這對增加真空滅弧室的開斷容量起良好作用。

觸頭是產生電弧、熄滅電弧的部位，對材料和結構的要求都比較高。觸頭結構對滅孤室的開斷能力有很大影響。采用不同結構觸頭產生的滅弧效果有所不同的，早期采用簡單的圓柱形觸頭，結構雖簡單，但開斷能力不能滿足斷路器的要求，僅能開斷10kA以下電流，并且僅有真空負荷開關、高壓真空接觸器等用真空開關管才采用。常采用的有螺旋糟型結構觸頭、帶斜槽杯狀結構觸頭和縱磁場杯狀結構觸頭三種，其中以采用縱磁場杯狀結構觸頭為主。